当研究室と株式会社片桐エンジニアリングが共同で開発を進めてきたマルチチャンネル型ナノ材料合成装置が、4月23日に無事納品されました。本装置は、最大4基のスパッタカソードを搭載可能であり、基板ステージは最大1500℃まで加熱できるオリジナル設計の装置です。

本装置は、平田が参画する科学技術振興機構（JST）の創発的研究支援事業「SAHP法による2次元ナノマテリアルの合成とヘテロ構造の探究」の支援により導入されたものです。今後は、本装置を活用することで、本研究室が確立してきた二次元材料の革新的合成手法であるSAHP（Sputtering Annealing Hybrid Process）をさらに発展させ、マルチチャンネル化した「Multi-Channel SAHP」へと拡張していきます。これにより、グラフェン、hBN、さらにはTMDC（Transition Metal Dichalcogenide）といった材料を自在に組み合わせたvdWH（van der Waals Heterostructure）の創製に挑戦し、次世代材料・デバイスの実現を目指します。